2025年 4月 22日，由中国科协新技术开发中心、中国国际光电博览会组委会、深圳市光学光电子行业协会联合主办的“2025中国（成都）国际精密光学技术与应用大会”，在成都环球中心天堂洲际大饭店盛大启幕。此次大会为期两天，首日围绕“微纳光学前沿技术”与“超精微纳加工与制造”两大核心议题展开，集结高校权威学者、行业领军人物及创新企业代表，深度探讨光学领域的技术创新与产业升级路径。

（会议现场）

大会吸引了来自微纳元器件厂商、超精密加工设备企业、半导体材料及加工设备厂商、光学检测设备供应商、镜头模组企业，以及光学应用终端企业等领域的行业精英参会，共襄光学技术发展盛举。

此外，大会精心打造的展览展示区设于会场，80余家企业携品牌产品集中亮相。展品涵盖新型微纳元器件、超精密加工设备、半导体加工设备、光学成像测试测量仪器、光学镜头及摄像模组，以及光学镀膜材料与设备等，全方位呈现精密光学产业链上下游的最新技术成果与产品创新。

微纳光学前沿技术

成都市博览局党组书记、局长潘雪松，成都市博览局党组成员、副局长孙文慧，中国国际光电博览会（CIOE）创始人/执行主席、深圳市光学光电子行业协会会长杨宪承教授，深圳大学博导、深圳市光学光电子行业协会党支部书记彭文达教授，中国国际光电博览会（CIOE）副主席兼秘书长杨耕硕教授等代表出席。

会议演讲嘉宾有西湖大学副校长仇旻教授，中国科学院光电技术研究所特聘研究员，中国光学学会光学制造专委会范斌秘书长、清华大学长聘副教授杨原牧老师以及欧光芯、南智芯视、香港应科院有限公司等知名企业高层。

现场围绕碳化硅光子学：碳化硅纳米光子器件的设计与制造、纳米压印工艺及在AR眼镜和超透镜领域的应用、微纳制造赋能微纳光子技术迈向产业应用新高度等话题展开深入交流、探讨。

超精微纳加工与制造

下午的会议演讲嘉宾邀请到天津市ACSM制造与检测技术重点实验室主任，天津大学张效栋教授、国防科技大学田野副研究员以及天仁微纳、新维度微纳、百盛光电、太科光电、贝瑞光电等知名企业高层，探讨自由曲面光学系统的技术演进与产业化应用、纳米压印光刻技术、玻璃晶圆平面参数的测量技术、超精密离子束加工等热门话题。

会议现场&特设展示区

成都市博览局致辞

孙文慧成都市博览局党组成员、副局长

孙文慧副局长表示：“近年来，成都依托丰富的科研资源和产业基础，大力发展光学光电子产业，取得了显著成效。目前，成都已经聚集了一批优质的光学光电子企业和研究机构，积极推动光学光电子技术在各领域的应用，形成了完整的产业链和生态圈，为城市的经济社会发展注入了新的动力。成都会展的快速发展，不仅为光学、光电子行业提供了展示和交流的平台，也促进了成都与国内外城市的交流与合作，推动了我市光电产业链加快向上游延伸。”

“作为国家中心城市，重要科技创新中心，成都一直致力于推动科技创新和产业升级。精密光学和机器视觉技术作为新兴产业，对于推动我市的高质量发展具有重要意义！我们也深知，技术创新和产业发展离不开专业学者、行业组织和企业的智慧力量，在此，我们诚挚的邀请各位嘉宾继续关注成都的发展，与我们携手共进，共同书写更加辉煌的未来篇章！”

主办方欢迎致辞

杨耕硕 Eric Yang中国国际光电博览会（CIOE）副主席兼秘书长

杨耕硕副主席表示，精密光学前沿技术不断发展，以创新之力催生了新兴产业形态与应用场景，为行业发展注入动能。CIOE中国光博会作为深耕光电领域的专业平台，始终坚守初心，以笃行不怠的姿态，持续发挥桥梁纽带作用，深化促进光电行业交流，全力助推光学产业蓬勃发展，加速其与更多应用领域的深度融合。未来，CIOE将始终与行业同仁携手并肩，为产业高质量发展全力以赴。

纳米压印工艺及在AR眼镜和超透镜领域的应用

张琬皎

国科大杭州高等研究院教授

杭州欧光芯科技有限公司总经理

本次报告提到纳米压印在 AR眼镜镜片量产、超透镜加工中的实际应用，介绍了模具加工方式（电子束直写、光刻 +刻蚀）和压印胶特性，并通过实验验证了连续压印的稳定性和材料抗老化性。

张教授表示：“纳米压印较EUV光刻成本低、能耗低，虽在半导体领域应用受限，但在AR眼镜等光学领域优势显著，可直接将压印胶作为光学器件一部分。高折射率纳米压印（最高1.9）是AR眼镜和可见光超透镜的核心材料，连续压印25片结构变化率仅3%，稳定性高。”

微纳制造赋能微纳光子技术迈向产业应用新高度

成钊宇

南智芯视（南京）科技有限公司总经理

本次报告中以超构透镜为例，分析其从科研到产业面临的挑战，如视场角与分辨率的平衡、边缘像差优化、彩色成像及效率问题等。通过阵列化的思路、照明与聚焦 NA结合、双面Lens设计优化边缘相差等手段，可突破超构透镜在视场、分辨率等方面的应用限制，探索出适用于病理切片扫描等场景的路径，使其具备产业应用价值。

成总表示：“推动微纳光学的产业落地发展，其实更多的是需要科学研究思维与工程制造思维相互理解、协同创新发展，才能够加速产业落地。“

基于超构表面的多维光场感知

杨原牧

清华大学长聘副教授

报告分享基于超构光学元件的视觉信息感知研究。指出传统视觉感知局限于二维光强，而超构光学元件可通过纳米级光场调控构建“多维点扩散函数”，实现三维深度、偏振等多维度信息感知。杨教授团队通过设计将深度信息编码至偏振图像，结合单目相机实现免主动照明的三维成像，解决了弱纹理、半透明物体的重建难题，还能融合偏振与深度信息实现材质识别（如区分活体与假体人脸）。目前已研发出硬币大小的单目 3D相机模组，兼具体积小、成本低、分辨率高等优势，适用于机器人避障等场景。未来期待与产学研界合作推动实际应用。

杨教授表示：“基于超构相机的“拓展”单目三维成像具有百万像素的高分辨率三维点云、高精度的绝对深度、无需先验的算法、传统易失效场景下的强鲁棒性以及超越传统成像系统的材料识别能力等优点。“

超透镜自动化设计

蔡振荣博士

香港应科院物联网感测与人工智能首席总监

蔡博在报告中介绍香港应用科技研究院（应科院）在超透镜自动化设计领域的研发进展。其超透镜研究涵盖成像光学、光源照明等场景，团队自主开发了超透镜自动设计软件，具备 AI增强、误差模拟校正等功能，可优化纳米结构设计并降低开发成本。目前重点探索手机相机、3D成像、红外成像等应用。

蔡博指出：“超透镜在手机相机与 3D成像领域具备量产潜力，可通过半导体工艺实现光学镜片小型化、低成本化，减少镜片数量并提升设计灵活性。超透镜制作工艺（如纳米压印与光刻技术）的选择需兼顾成本与市场，部分技术（如远红外硅基板应用）仍待业界论证。”

面向可见与红外的宽谱段单片衍射元件成像技术研究

范斌

中国科学院光电技术研究所特聘研究员

中国光学学会光学制造专委会秘书长

报告围绕新型光学成像技术展开，指出传统成像技术体积庞大，需探索新手段。引入纳米技术与 AI，基于传统衍射光学元件（DOE）设计，通过端到端神经网络训练优化成像质量，实现了消色差衍射透镜、多阶单片衍射透镜等设计。该技术兼容传统加工，具集成度高、批量制备等优势，有望在智能安防、无人驾驶、人机交互、航空航天等领域得到广泛应用。

范秘书长指出：“新型衍射透镜技术兼容成熟加工工艺，具备制造周期短、适合批量制备等优势，可赋能车载、无人机等多领域。

”

碳化硅光子学：碳化硅纳米光子器件的设计与制造

仇旻

西湖大学副校长

（现场视频演讲）

仇老师主要介绍了近期在碳化硅纳米光子器件设计制造领域的研究进展。碳化硅具高折射率、高透明性、高热导率等特性，团队利用其导热性研发微辐射材料，用高折射率和热导率开发超材料。同时，介绍了基于碳化硅的 AR眼镜，其镜片厚 0.55mm，FOV超 45度，单层结构实现全彩显示，可批量生产且成本有望降低，第二版厚度 0.71mm、重 3.8g，亮度表现优异。

仇老师表示“当前，碳化硅晶圆市场正在逐步趋近成熟，单位生产成本将随着原材料生产技术的成熟与生产数量而下降。未来单个碳化硅的AR glasses成本有望降至 2000美元以下，无论是在消费电子、产业应用、教育以及显示等等方面，都有着极其重要的应用价值。”

超精微纳加工与制造嘉宾分享

自由曲面光学系统的技术演进与产业化应用

张效栋

天津大学教授

天津市ACSM制造与检测技术重点实验室主任

报告围绕传统加工手段制造光学自由曲面展开，张教授团队在自由曲面制造上，从设计端限制自由度以利加工，提升加工精度，探索一体加工简化装调，发展多精度测量手段，还将技术应用于半导体等领域。光学自由曲面设计端需限制自由度，让制造具有可行性，如在锗自由曲面设计中引入不自由度使加工成为可能。

张教授指出，当前对技术领域的理解已发生重构，突出体现在对自由度约束与原位测量技术的认知革新。新的研究焦点持续涌现，包括全流程嵌入式测量方法的开发、自动对准技术的需求升级等，而对精度与成本的终极追求始终未变。他强调，在后自由曲面时代，需持续推动技术迭代以响应不断演变的产业需求，在创新之路上追求卓越。

高精度纳米压印制造

罗刚

苏州新维度微纳科技有限公司总经理

罗总在报告中聚焦高精度纳米压印制造技术，分析其技术特性、市场格局及产业化进展。技术层面，罗总指出：“纳米压印基数的高分辨、低成本、大产能以及加工材料广的特点决定了它在未来工艺发展中具有明确的不可替代性。但需全生态链支撑才能产业化。”

罗总指出：”

纳米压印技术需构建完整的制造生态链，方可形成产业化制造能力并实现产品的加工生产。这正是本次汇报主题定为“纳米压印制造”而非“纳米压印全生态链”的原因——若缺乏全生态的设备配套与材料配套体系，纳米压印制造的实际落地将面临显著障碍。”

纳米压印光刻：AR衍射光波导生产解决方案

冀然

青岛天仁微纳科技有限责任公司董事长

冀总在报告中指出，天仁微纳针对纳米压印应用场景的多样性（如高精度光学元件加工、大面积面板制造、复杂曲面结构成型等），开发了热压 /紫外压结合、顺序式压印、真空压印等差异化技术，有效解决了单一工艺无法覆盖全场景的行业痛点。

在量产级精度与稳定性方面，天仁微纳通过自主设备研发与工艺优化，实现了多项关键突破：单面压印精度达 ±1μm、双面压印精度达 ±3μm（均为量产实测数据），模具拼接偏差控制在≤1%，连续压印 25片的片内 /片间一致性均≤1%，成功突破了实验室技术向工业化大规模生产的转化瓶颈。

玻璃晶圆平面参数的测量技术

程北

浙江百盛光电股份有限公司研发部总监

程博的报告围绕玻璃晶圆平面参数测量展开，首先指出平面参数（如 TTV、翘曲、弯曲）对半导体加工工艺的重要性，现有主流测量设备多基于干涉技术，但存在环境要求高、成本高的问题。百盛光电研发的设备采用光谱测量方法，经对标测试，其与主流设备测量趋势一致，且偏差更小、稳定性更高，无需严苛环境，适合工厂批量快速检测，具备精度高、灵活性强等优势。“

超光滑抛光技术与应用研究

张旭川研究员

国家科技专家库专家

成都贝瑞光电科技股份有限公司董事长

报告围绕超光滑抛光技术展开，介绍其科学背景、关键指标及对光学系统的影响。张总重点分析了其技术难点（如高中低频误差控制、量产一致性）和国内外发展现状，指出国内虽进步显著但仍存在设备依赖进口等瓶颈。并且结合贝瑞光电的实践，阐述该技术在半导体、强激光、国防等领域的应用价值，并呼吁推动超光滑光学元件的普世应用以提升光电系统性能。

张总表示：“超光滑光学元件的量产需突破工艺一致性与成本控制难题，其广泛应用将推动光电产业升级，尤其在半导体、国防等“卡脖子”领域具有战略意义。

“

多波长斐索干涉测试技术与仪器

赵智亮

西华大学教授

成都太科光电技术有限责任公司董事长

赵教授在报告中介绍了公司在多波长测试干涉仪领域的研究成果与应用。多波长干涉仪因光学系统、材料检测等需求而发展，其原理是基于 633nm可见光波长基准，集成紫外、红外等多波段共光路测试，解决了大动态范围检测、环境振动干扰等问题。公司研发的仪器覆盖紫外到长波红外波段，具备多波长共光路校准、高精度测试等特点，应用于激光武器、光刻、生物医药等敏感领域，尤其在大口径光学系统和离轴元件检测中优势显著。

低温无钨丝离子源用于超精密离子束加工的研究

田野

国防科技大学副研究员

田老师在报告中提到：离子束技术在超精密制造中有着广泛应用，但实现精度提升仅仅只是超精密制造的基础要求。然而现有离子束抛光技术受到喷溅污染多、加工温度高与结构与中和器耗材易氧化的制约，在强激光元件制造、热敏材料加工方面仍有巨大提升空间。

团队通过工艺创新突破高频电离原理与关键结构设计，完全自主研制新型离子源，在效率、寿命、控制精度和溅射污染全方位突破国外离子源水平，全方位推进光学抛光离子源技术。

感谢嘉宾带来的精彩演讲与前沿分享！本次大会为期两天，明日议程同样精彩纷呈，半导体量测技术与光学薄膜高精度制作技术两大专题演讲及研讨即将开启，行业大咖深度剖析技术难点、共探产业发展新趋势，干货不容错过！